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原子层沉积 ALD 技术在材料表面处理中的应用

白 金亮

摘要

原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD)技术是一种用于精确控制薄膜厚度和组成的先进涂层方法。通过逐层沉积原子层,ALD技术可以在各种复杂表面上形成均匀且无缺陷的涂层。这种技术在提高材料表面耐腐蚀性、耐磨性和光学性能方面表现出显著优势。本文综述了ALD技术的基本原理、工艺特点及其在材料表面防护中的应用,涵盖了半导体、光学器件、医疗和能源等领域。本文还探讨了当前技术面临的挑战和未来发展方向,旨在为相关研究人员和工程师提供参考。

关键词

原子层沉积;表面处理;保形性;耐腐蚀;耐磨损,抗菌

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参考

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作者简介:金亮(1981,11)男,陕西西安,汉族,大学本科,材料物理。


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